超精細なパターンに対応
液晶ディスプレーの大型化・高品位化に伴い、フォトマスクも高精細化・大型化が進み、現在では1m角を超えるガラスに線幅数ミクロン（μm。1μm＝1/1000mm）という高精細なパターンの形成が求められています。エスケーエレクトロニクスは独自の描画・プロセス技術によって、高精細なパターンをサブミクロンという極めて小さな誤差の範囲内で形成することができます。
また、これらの技術を液晶ディスプレー用以外にも応用し、お客様のご要望に応じて、電子デバイス分野でも最高品質のフォトマスクをご提供しています。
エスケーエレクトロニクスはサブミクロンの誤差の範囲内で真っ直ぐにフォトマスクのパターンを描くことができます。その精度の高さは、全長約2kmの線を起点から終点へ1mm以内の左右のずれに留めて引くのと同等のレベルです。
通常よく利用されるミシン糸の直径は約0.2mm。比べてみると、フォトマスクに描かれたパターンが極めて細いことがわかります。