エスケーエレクトロニクス統合報告書2026
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用)方式から、より高精細なフォトリ 力が最も活きる局面です。高画質化や高付加価値対応の 力が最も活きる局面です。高画質化や高付加価値対応の会社情報イントロダクションSTORY3価値創造を支える体制STORY2成長戦略STORY1価値創造プロセス 化がもたらす新たな成長機会~��������������������������������������������������������������������������������������フォトマスクへの期待技術の高度化を追い風に、市場の期待を超える価値を創出 載パネルを効率よく生産するために、フォトマスクのサイズ成長戦略26面積約 2.3 倍1.大型化の進展:第8世代有機ELパネル工場の稼働に伴い、大型かつ高精度なフォトマスクの需要が増加。2.高付加価値領域の伸長:回路パターンの微細・複雑化に伴い、より付加価値の高いフォトマスクへの要求が高度化。3.新たな需要への対応:フォトマスクの使用枚数増加に加え FMM 代替の新工法により、既存市場の拡大以上の新たな需要が創出。資や技術革新」挑戦を成功に導く鍵を、握っています。第 6 世代第 8 世代● : 稼働中の第 6 世代パネル工場● : 稼働予定の第 8 世代パネル工場大きく資すると考えています。機能化に伴い、製造プロセスが複雑化すた、フォトマスクの使用枚数も増加。への転換検討。 いてもこれらのニーズへの対応が肝要となります。特に、大型のパネルに使用するフォトマスクは製造の難易度が上がり、 8 世代基板への移行が具体化。

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