SKEの技術
超精細なパターンに対応
フラットパネルディスプレーの大型化・高品位化に伴い、フォトマスクも高精細化・大型化が進み、現在では1m角を超えるガラスに線幅数ミクロン（μm。1μm＝1/1000mm）という高精細なパターンの形成が求められています。エスケーエレクトロニクスは独自の描画・プロセス技術によって、高精細なパターンをサブミクロンという極めて小さな誤差の範囲内で形成することができます。
また、これらの技術をフラットパネルディスプレー用以外にも応用し、お客様のご要望に応じて、電子デバイス分野でも最高品質のフォトマスクをご提供しています。
エスケーエレクトロニクスはサブミクロンの誤差の範囲内で真っ直ぐにフォトマスクのパターンを描くことができます。その精度の高さは、全長約2kmの線を起点から終点へ1mm以内の左右のずれに留めて引くのと同等のレベルです。
通常よく利用されるミシン糸の直径は約0.2mm。比べてみると、フォトマスクに描かれたパターンが極めて細いことがわかります。
Phase Shift Mask (PSM)による解像度の向上
Phase Shift Mask (PSM)とは、基板の一部にPhase Shift膜（位相シフト膜）という屈折率や透過率の異なる物質を付加することで、その部分を通過する光の位相や強度を変えて、解像度を向上させる技術です。
境界部のIntensity Contrastが向上し、解像度がUPする。
生産効率とパネルの品位向上に貢献する多階調マスク
通常より少ない枚数でパターンを基板に焼き付けることができるため、パネルの製造工程を短縮できる多階調マスクは、パネル生産効率の向上を実現します。また、中間調を表現できるため、ディスプレーパネルの表示品位を高めることができます。エスケーエレクトロニクスでは今後、お客様の要望に応じて、その他のディスプレーや電子デバイスなどにも多階調マスクの技術を活用していきます。
多階調マスクとは?
多階調マスクにはグレイトーンマスクとハーフトーンマスクの2種類があります。グレイトーンマスクは、露光機の解像度以下のスリットを作り、そのスリット部が光の一部を遮り、中間露光を実現します。一方、ハーフトーンマスクは「半透過」の膜を利用し、中間露光を行います。いずれも、1回の露光で「露光部分」「中間露光部分」「未露光部分」の3つの露光レベルを表現し、現像後に2種類の厚さのレジスト（感光剤）を作ることができます。このレジストの厚さの違いを利用して少ない枚数でパネル基板にパターン転写することができるため、パネルの生産効率アップを実現します。
グレイトーンマスク
グレイトーンマスクは、露光機の解像度以下のスリットを作り、そのスリット部が光の一部をさえぎることで中間露光を実現します。
ハーフトーンマスク
ハーフトーンマスクは「半透過」の膜を利用し、中間露光を行います。