株式会社エスケーエレクトロニクス

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企業情報

沿革

1868年(明治初頭)石田旭山印刷所〔株式会社写真化学の前身〕として創業
1988年(昭和63年)京都府久世郡久御山町に工場開設
世界初大型EB描画機導入
1995年(平成7年)工場・設備を一新し、業界に先駆けて、800mmサイズフォトマスク製造を実現
2001年(平成13年)株式会社写真化学より分社し、 株式会社エスケーエレクトロニクス設立
2002年(平成14年)台湾の台南科学工業園区(SIPA)内に連結子会社「頂正科技股份有限公司」を設立
2003年(平成15年)当社株式を日本証券業協会(現:東京証券取引所(所属JASDAQ))に店頭登録銘柄として登録
2005年(平成17年)久御山事業所(現:京都工場)に新工場を建設
韓国の天安市に販売子会社「SKE KOREA CO., LTD.」を設立
2009年(平成21年)第10世代、第11世代対応の滋賀工場を稼働
2010年(平成22年)中国の上海市に販売子会社「愛史科電子貿易(上海)有限公司」を設立
2012年(平成24年)デジタルマイクロスコープおよびコロニーカウンターの販売を開始
2013年(平成25年)台湾の台北市に頂正科技股份有限公司の営業拠点として、台北支社を開設
2014年(平成26年)各種オフセット印刷向けガラスドライエッチング版の販売を開始
2015年(平成27年)「SEM Glove 自立支援用」の販売開始
株式会社 清原光学を子会社化
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